特許

J-GLOBAL ID：200903024275558585

処理液供給機構および液吐出機構

発明者： 小西 信夫 ,  廣瀬 圭藏
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-193378
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026366
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 配管を通流する液体中に微細気泡が発生すること、および液体の劣化が生じることを防止することができる処理液供給機構および液吐出機構を提供すること。【解決手段】 被処理体に処理液を供給する処理液供給機構であって、処理液Lを収容する処理液源42と、処理液源42から被処理体Wへ処理液を導く処理液配管41と、処理液Lを処理液源42から被処理体Wへ向けて供給する処理液供給駆動系44,45と、処理液の供給および停止を行う処理液供給/停止手段47,48とを具備し、処理液配管42と処理液供給駆動系44,45とは別個に設けられ、処理液供給/停止手段47,48が処理液配管41以外に設けられている。

請求項（抜粋）：

被処理体に処理液を供給する処理液供給機構であって、処理液を収容する処理液源と、処理液源から被処理体へ処理液を導く処理液配管と、処理液を処理液源から被処理体へ向けて供給する処理液供給駆動系と、処理液の供給および停止を行う処理液供給/停止手段とを具備し、前記処理液配管と処理液供給駆動系とは別個に設けられ、前記処理液供給/停止手段が前記処理液配管以外に設けられていることを特徴とする処理液供給機構。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  B05C 5/00

FI (6件)：

H01L 21/30 564 Z ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  B05C 5/00 Z ,  H01L 21/30 569 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• レジスト送液装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-064123   出願人：富士通株式会社