特許
J-GLOBAL ID：200903024280434754
光電変換装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228518
公開番号（公開出願番号）：特開2001-053301
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 大型基板上に形成された光電変換装置の複数の個々の装置への分割を、半導体層と裏面電極との間で剥離を生ずることなく行うことを可能とする、光電変換装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板上に、第1の電極層、半導体層、および第2の電極層を順次積層する工程と、前記第2の電極層の、複数のモジュールに分割される予定領域を所定の幅に除去し、前記第2の電極層をモジュールごとに複数に区分する工程と、前記複数に区分された第2の電極層の全体に封止樹脂を被覆する工程と、前記封止樹脂が被覆された構造を、前記第2の電極層が除去されている、前記複数のモジュールに分割される予定領域に沿って切断して、複数の光電変換装置モジュールを形成する工程を具備することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板上に、第1の電極層、半導体層、および第2の電極層を順次積層する工程と、前記第2の電極層の、複数のモジュールに分割される予定領域を所定の幅に除去し、前記第2の電極層をモジュールごとに複数に区分する工程と、前記複数に区分された第2の電極層の全体に封止樹脂を被覆する工程と、前記封止樹脂が被覆された構造を、前記第2の電極層が除去されている、前記複数のモジュールに分割される予定領域に沿って切断して、複数の光電変換装置モジュールを形成する工程を具備することを特徴とする光電変換装置の製造方法。
Fターム (20件)：
5F051AA05
, 5F051BA12
, 5F051CA15
, 5F051DA03
, 5F051DA04
, 5F051DA05
, 5F051EA01
, 5F051EA02
, 5F051EA09
, 5F051EA10
, 5F051EA11
, 5F051EA13
, 5F051EA14
, 5F051EA16
, 5F051EA20
, 5F051FA01
, 5F051FA02
, 5F051FA03
, 5F051FA04
, 5F051FA06
