チオフェン誘導体を含む炭化水素の脱硫法および脱硫装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：吉武賢次 , 中村行孝 , 紺野昭男 , 横田修孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-555194
公開番号（公開出願番号）：特表2004-517193
出願日： 2001年12月20日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】オクタン価またはセタン価を低下させることなく、場合によってはこれらの価を増大させながら、特にチオフェン誘導体を含有する燃料ベースとして使用される炭化水素の脱硫方法を提供すること。【解決手段】原油蒸留によって生産された精製または非精製炭化水素中に含有されるチオフェン化合物の選択的脱硫方法において、チオフェンの硫黄原子を酸化剤と触媒の存在下において酸化し、得られたスルフォン化合物を前記炭化水素から分離する段階を含み、前記方法は過酸化物と過酸のグループに属する有機酸化物の存在下においてまた100m2/g以上の比表面積と0.2乃至4ml/gの範囲内の多孔度とを有する触媒の存在下において少なくとも40°Cの温度で有機媒質の中で硫化化合物を異質触媒によって酸化/吸着する第1段階と、使用された触媒を再生する第2段階とを含み、前記再生段階が常に前記酸化/吸着段階に続くことを特徴とする方法。

請求項（抜粋）：

チオフェン硫黄原子を酸化剤の存在においてスルフォンに酸化しスルフォン化合物を前記炭化水素から分離するように成された原油の蒸留から生産された精製または非精製炭化水素の中に含有されるチオフェン誘導体の選択的脱硫方法において、この方法は少なくとも、過酸化物と過酸属の有機酸化剤の存在下において、また100m2/g以上の比表面積を有しまた0.2乃至4ml/gの範囲内の多孔度を有する触媒の存在下において、有機媒質中において、硫黄化合物の非均質触媒によって酸化/吸着する第1段階と、使用済み触媒の再生第2段階とを含み、前記再生段階は常に前記酸化/吸着段階に後続することを特徴とする、チオフェン誘導体の選択的脱硫方法。

IPC (14件)：

C10G27/12 , B01J21/08 , B01J23/30 , B01J23/92 , B01J29/03 , B01J29/70 , B01J29/90 , B01J35/10 , B01J38/00 , B01J38/02 , C10G25/00 , C10G29/04 , C10G29/16 , C10G53/16

FI (14件)：

C10G27/12 , B01J21/08 M , B01J23/30 M , B01J23/92 M , B01J29/03 M , B01J29/70 M , B01J29/90 M , B01J35/10 301B , B01J38/00 A , B01J38/02 , C10G25/00 , C10G29/04 , C10G29/16 , C10G53/16

Fターム (36件)：

4G069AA03 , 4G069AA10 , 4G069BA01A , 4G069BA01B , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA04B , 4G069BA05A , 4G069BA07B , 4G069BA08A , 4G069BA10A , 4G069BB04B , 4G069BC54A , 4G069BC58A , 4G069BC59B , 4G069BC60B , 4G069BC62A , 4G069BC66A , 4G069CC02 , 4G069DA05 , 4G069EC03X , 4G069EC03Y , 4G069EC04X , 4G069EC04Y , 4G069EC05X , 4G069EC14Y , 4G069EC15Y , 4G069EC27 , 4G069FC08 , 4G069GA01 , 4G069GA18 , 4G069ZA01A , 4G069ZA19B , 4G069ZA39A , 4H029DA02 , 4H029DA06

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