特許

J-GLOBAL ID：200903024290173738

化粧用洗浄剤

発明者： 佐藤 吉幸 ,  星野 知子 ,  成田 年幸
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-014787
公開番号（公開出願番号）：特開平5-201851
出願日： 1992年01月30日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：

【要約】【構成】 下記の成分(A)及び(B)を含む化粧用洗浄剤。(A)式(I)【化3】(式中、Pは3〜7の整数を表す)で示される環状ジメチルシロキサン(B)ポリメチルフェニルシロキサン好ましい組成としては、成分(A)が50〜98重量%、成分(B)が50〜2重量%である。【効果】 皮膚に刺激及び障害を与えることなく、水洗浄設備のない場所においても、簡単に皮膚の汚れや化粧料を、良好な使用感をもって、除去することができる。

請求項（抜粋）：

下記の成分(A)及び(B)を含むことを特徴とする化粧用洗浄剤。(A)式(I)【化1】(式中、Pは3〜7の整数を表す)で示される環状ジメチルシロキサン又はそれらの混合物(B)ポリメチルフェニルシロキサン

IPC (4件)：

A61K 7/50 ,  A61K 7/02 ,  C11D 7/26 ,  C08G 77/04