荷電粒子ビーム露光方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平戸哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-229688
公開番号（公開出願番号）：特開平8-097120
出願日： 1994年09月26日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】ステージの座標の位置ずれ量の測定領域の内外にわたり、ステージ位置の高精度の補正を行い、パターン配置精度の高い露光を行うことができるようにする。【構成】ステージの座標の位置ずれ量を任意の測定点において測定し、ステージの座標の位置ずれ量の測定領域内においては、ステージの座標の位置ずれ量を単一多項式で近似し、更に、その近似残差をスプライン関数によって近似することにより、測定点間のステージの座標の位置ずれ量を補間し、任意の位置を決定すると共に、ステージの座標の位置ずれ量の測定領域外においては、ステージの座標の位置ずれ量を前記単一多項式の解によって補外することにより、任意の位置を決定する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム発生源から発生された荷電粒子ビームを水平方向に移動可能とされたステージ上に保持された試料の所望位置に照射することにより露光を行う荷電粒子ビーム露光装置において、前記ステージの座標の位置ずれ量を任意の測定点において測定し、前記ステージの座標の位置ずれ量の測定領域内においては、前記ステージの座標の位置ずれ量を単一多項式で近似し、更に、その近似残差をスプライン関数によって近似することにより、前記測定点間の前記ステージの座標の位置ずれ量を補間し、前記ステージ位置の補正を行い、前記ステージの座標の位置ずれ量の測定領域外においては、前記ステージの座標の位置ずれ量を前記単一多項式の解によって補外することにより、前記ステージ位置の補正を行うことを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 506 , G03F 7/20 521 , G21K 5/04 , H01J 37/305

FI (2件)：

H01L 21/30 541 L , H01L 21/30 551

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