プラズマディスプレイ用平面基板の製造方法とその製造方法により製造したプラズマディスプレイ用平面基板

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-101848
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294058
出願日： 1997年04月18日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】高解像性で優れた微細パターンを大画面にわたって安定して作製し、表示品質が一様で優れた輝度、コントラストの特性が得られるプラズマディスプレイパネルを提供すること。【解決手段】前面ガラス基板あるいは背面ガラス基板を構成する平面基板上に、複数の放電空間を区画するために設けられた複数のリブと、このリブの間に電極が形成されたプラズマディスプレイ用平面基板の製造方法において、電極およびリブを形成する工程が、感光性樹脂組成物を平面基板に塗布し、フォトリソグラフィー技術によりパターン状に除去した領域に電極材料、リブ材料を充填する工程を備えた。

請求項（抜粋）：

前面ガラス基板あるいは背面ガラス基板を構成する平面基板上に、複数の放電空間を区画するために設けられた複数のリブと、このリブの間に電極が形成されたプラズマディスプレイ用平面基板の製造方法において、前記電極及びリブを形成する工程が、感光性樹脂組成物を平面基板に塗布し、フォトリソグラフィー技術によりパターン状に除去した領域に電極材料、リブ材料を充填する工程を備えたことを特徴とするプラズマディスプレイ用平面基板の製造方法。

IPC (5件)：

H01J 9/02 , H01J 9/227 , H01J 11/02 , H01J 17/04 , H01J 17/16

FI (5件)：

H01J 9/02 F , H01J 9/227 E , H01J 11/02 B , H01J 17/04 , H01J 17/16

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