熱処理炉

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-131234
公開番号（公開出願番号）：特開平6-318556
出願日： 1993年05月06日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】反応容器内に噴射される原料ガスを半導体ウェハの位置に関係なく常に均質に供給することができる熱処理炉を提供する。【構成】原料ガスを反応容器内に噴射する多数の開口部が形成されたU字型のガス導入管を具備する。【効果】熱履歴の均質な原料ガスを石英ボート上の位置に係わらず供給することができ、均一なウェハ処理を行うことができる。

請求項（抜粋）：

反応ガスを反応容器内に噴射するための多数の開口部が形成されたU字型のガス導入管を具備することを特徴とする熱処理炉。

IPC (3件)：

H01L 21/22 , H01L 21/205 , H01L 21/31

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