特許

J-GLOBAL ID：200903024334161961

マッピング測定装置

発明者： 石田 俊正 ,  武田 光市
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (1件)： 井ノ口 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-100208
公開番号（公開出願番号）：特開2003-337104
出願日： 2002年04月02日
公開日（公表日）： 2003年11月28日
要約：

【要約】【課題】 マッピング測定用の試料移動ステージの駆動方法を改良し試料を均一な密度でマッピングを行うマッピング測定装置を提供する。【解決手段】 本発明による装置は、ステージ2、前記ステージに支持された試料1の表面に定時間間隔でマッピング光信号を供給し信号光を得るマッピング手段、回転運動と前記回転の軸に直角方向の直線運動を合成して前記ステージ2を駆動する駆動機構、前記駆動機構に駆動信号を発生する駆動信号発生回路および検出信号処理出力手段とを含んでいる。前記駆動信号は、直線運動速度信号(dr/dt)と回転速度信号(dθ/dt)からなり、それらの間に前記マッピング信号のスポットが渦巻き曲線上にあり、渦巻き曲線上のスポットの間隔が等しくなるように予め定めた関係が与えられる。

請求項（抜粋）：

ステージ、前記ステージに支持された試料の表面に定時間間隔でマッピング光信号を供給するマッピング手段、回転運動と前記回転の軸に直角方向の直線運動を合成して前記ステージを駆動する駆動機構、前記駆動機構に駆動信号を発生する駆動信号発生回路および検出信号処理出力手段とを含むマッピング測定装置において、前記駆動信号は、直線運動速度信号(dr/dt)と回転速度信号(dθ/dt)からなり、それらの間に前記マッピング信号のスポットが渦巻き曲線上にあり、渦巻き曲線上のスポットの間隔が等しくなるように予め定めた関係が与えられて構成されているマッピング測定装置。

IPC (4件)：

G01N 21/64 ,  G01B 11/06 ,  G01N 21/41 ,  G01N 21/65

FI (4件)：

G01N 21/64 Z ,  G01B 11/06 H ,  G01N 21/41 Z ,  G01N 21/65

Fターム (37件)：

2F065AA30 ,  2F065BB03 ,  2F065BB17 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065HH13 ,  2F065LL67 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065UU04 ,  2G043CA05 ,  2G043DA05 ,  2G043EA01 ,  2G043EA03 ,  2G043FA01 ,  2G043GA07 ,  2G043GB19 ,  2G043HA02 ,  2G043HA09 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043NA01 ,  2G043NA06 ,  2G059AA02 ,  2G059BB16 ,  2G059DD12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE04 ,  2G059FF01 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10