特許
J-GLOBAL ID:200903024337019163

アミノ官能性ケイ素化合物使用によるガスの選択的分離法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ウオーレン・ジー・シミオール
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-072174
公開番号(公開出願番号):特開平7-265662
出願日: 1995年03月30日
公開日(公表日): 1995年10月17日
要約:
【要約】【目的】 汚染ガスからある種のガスを選択的に分離する方法の提供。【構成】 該方法は、汚染したガスを、シラン、シロキサン、シランとシロキサンの混合体、シランと非反応性有機流体との混合体、シランと非反応性シリコーン流体の混合体、シロキサンと非反応性有機流体の混合体、およびシロキサンと非反応性シリコーン流体の混合体から選択したアミノ官能性ケイ素化合物と、汚染したガス中の汚染物質を低減させるのに十分な温度で十分な時間接触させることから成る。
請求項(抜粋):
汚染ガスを、下記のA〜Gから選択したアミノ官能性ケイ素化合物と汚染ガス中の汚染物質を低減させるのに十分な温度で十分な時間接触させることから成ることを特徴とする汚染ガスから或る種のガスを選択的に分離する方法:(A).シラン、(B).シロキサン、(C).(A)と(B)の混合体、(D).(A)と非反応性有機流体、(E).(A)と非反応性シリコーン流体、(F).(B)と非反応性有機流体、および(G).(B)と非反応性シリコーン流体、但し、(A)は式RaSiR′3-a (1)を有し、(B)は、次のa〜dから選んだ式を有する。および式中、各Rは、本質的に、式-R′′NH1-bQbR′′′NHQ′ (2)および式R′′NHQから選んだ基であり、式中のR′′およびR′′′はそれぞれ-(CH2 )z〔式中のzは2〜4の値を有する〕、式および式から選ぶ;各R′は炭素原子が1〜6のアルキル基、フエニル基および(CH3)3 SiOから選び;aは少なくとも1の値を有し;bは0または1の値を有し;各QおよびQ′は水素原子または炭素原子が1〜6のアルキル基から選び;各xは1〜500の値を有し;各yは1〜20の値を有する、但しアミノ官能性ケイ素化合物の粘度は、汚染ガスと接触する前に25°Cで30,000センチストークス(mm2 /s)の粘度を有する〕。
IPC (4件):
B01D 53/62 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/56
FI (4件):
B01D 53/34 135 Z ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 122 Z ,  B01D 53/34 129 Z

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