特許
J-GLOBAL ID:200903024343436531
気体および蒸気に対する浸透度の低いコーティング
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
清水 初志
, 橋本 一憲
, 新見 浩一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-520874
公開番号(公開出願番号):特表2004-537448
出願日: 2002年08月20日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
多層構造は、気体および蒸気、たとえば酸素および水蒸気に対する障壁特性を有する。構造は、有機基板層と、基板層上の多層浸透障壁とを含む。障壁は、a)基板層の表面に接触する第1の無機コーティングと、b)無機コーティングの表面に接触する第1の有機コーティングとを含む。構造は、障壁特性が重要になる様々な製品、特に、装置の寿命に関する優れた障壁特性を必要とする有機発光ダイオード装置などの電子製品に用いることができる。
請求項(抜粋):
i)有機基板層と、
ii)有機基板層上の多層浸透障壁とを含む多層構造であって、該障壁が、
a)該基板層の表面に接触する第1の無機コーティングと、
b)第1の無機コーティングの表面に接触する第1の有機コーティングとを含む多層構造。
IPC (4件):
B32B9/00
, H05B33/02
, H05B33/04
, H05B33/14
FI (4件):
B32B9/00 A
, H05B33/02
, H05B33/04
, H05B33/14 A
Fターム (110件):
3E062AB14
, 3E062AC02
, 3E062JA08
, 3E062JB23
, 3E062JB24
, 3E062JC06
, 3E062JD01
, 3E062JD02
, 3K007AB12
, 3K007AB13
, 3K007AB14
, 3K007AB18
, 3K007BA07
, 3K007BB01
, 3K007CA06
, 3K007DB03
, 3K007FA02
, 4F100AA01B
, 4F100AA12E
, 4F100AA17E
, 4F100AA19E
, 4F100AA20
, 4F100AA20E
, 4F100AA27E
, 4F100AA28E
, 4F100AA33E
, 4F100AA37E
, 4F100AH06
, 4F100AK01A
, 4F100AK01B
, 4F100AK01C
, 4F100AK01D
, 4F100AK01E
, 4F100AK42
, 4F100AR00E
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA08
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA10E
, 4F100DC11B
, 4F100DC11D
, 4F100DC21B
, 4F100DC21D
, 4F100EH20
, 4F100EH202
, 4F100EH46
, 4F100EH462
, 4F100EH66
, 4F100EH662
, 4F100EJ52
, 4F100EJ522
, 4F100EJ54
, 4F100EJ542
, 4F100EJ55
, 4F100EJ552
, 4F100EJ58
, 4F100EJ582
, 4F100EJ64
, 4F100EJ642
, 4F100EJ82
, 4F100EJ822
, 4F100GB23
, 4F100GB41
, 4F100GB66
, 4F100JD01B
, 4F100JD02B
, 4F100JD02D
, 4F100JD03
, 4F100JD03A
, 4F100JD03B
, 4F100JD03C
, 4F100JD03D
, 4F100JD03E
, 4F100JD04
, 4F100JD04C
, 4F100JD04E
, 4F100JD14C
, 4F100JD14E
, 4F100JD16C
, 4F100JD16E
, 4F100JD20C
, 4F100JD20E
, 4F100JK01A
, 4F100JK09E
, 4F100JK12B
, 4F100JK12C
, 4F100JK12D
, 4F100JK12E
, 4F100JK14E
, 4F100JK17A
, 4F100JM02B
, 4F100JM02C
, 4F100JM02E
, 4F100JN01B
, 4F100JN06E
, 4F100JN17E
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4F100YY00D
, 4F100YY00E
, 4K029AA11
, 4K029BA43
, 4K029BB02
, 4K029BC00
, 4K029EA01
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平4-014440
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積層体、その製造方法およびその利用
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-121912
出願人:東洋インキ製造株式会社
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特開平4-014440
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