特許

J-GLOBAL ID：200903024360823638

発光ディスプレイパネルの製造方法

発明者： 久保田 広文
出願人/特許権者： パイオニア株式会社
代理人 (1件)： 瀧野 秀雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-056635
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252062
出願日： 1999年03月04日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 安価で容易に製造できる発光ディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に透明電極層を形成する透明電極形成工程と、金属電極パターニング用の溝に対応する位置に溶解層を形成する溶解層形成工程と、前記基板上に絶縁膜層を成膜する絶縁膜成膜工程と、前記絶縁膜層に前記透明電極層の画素領域を露出する画素開口と前記溶解層を露出される溝開口とを形成する開口形成工程と、前記溶解層を溶解し前記金属電極パターニング用の溝を形成する溝形成工程と、少なくとも前記画素領域において前記発光層を形成する工程と、前記溝において分割されるように複数の金属電極を形成する金属電極形成工程と、を含む。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された複数の透明電極層と、前記透明電極層の画素領域を露出する画素開口を有し金属電極パターニング用の溝とを有する絶縁膜層と、少なくとも前記画素領域において形成される発光層と、前記溝により複数に分割されるとともに少なくとも画素領域を覆うように形成された金属電極層と、を有する発光ディスプレイパネルの製造方法であって、基板上に前記透明電極層を形成する透明電極形成工程と、前記溝に対応する位置に溶解層を形成する溶解層形成工程と、前記基板上に前記絶縁膜層を成膜する絶縁膜成膜工程と、前記絶縁膜層に前記透明電極層の画素領域を露出する画素開口と前記溶解層を露出される溝開口とを形成する開口形成工程と、前記溶解層を溶解し前記金属電極パターニング用の溝を形成する溝形成工程と、少なくとも前記画素領域において前記発光層を形成する工程と、前記溝において分割されるように複数の金属電極を形成する金属電極形成工程と、を含むことを特徴とする発光ディスプレイパネルの製造方法。

IPC (5件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (5件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/30 365 B ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z

Fターム (26件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007CC00 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007EC03 ,  3K007FA01 ,  5C094AA09 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094DA15 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EB02 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB15 ,  5C094GB10