特許

J-GLOBAL ID：200903024361934379

エピタキシャルバレルリアクタ用の冷却装置及び方法

発明者： エリック・アイ・ゲイロード ,  チャールズ・エイチ・ミューラー
出願人/特許権者： エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-199846
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074699
出願日： 1997年07月25日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】 バレルリアクタの中で処理される半導体ウェーハの金属汚染を実質的に防止するバレルリアクタ及び運転方法を提供する【解決手段】 半導体ウェーハに材料を化学蒸着するバレルリアクタは冷却装置を有し、これはバレルリアクタの金属表面の劣化により生じる金属汚染から半導体ウェーハを保護する。劣化は、水がバレルリアクタ内の他の物質(例えばHCl)と反応することにより生じる。冷却装置はコントローラを有し、これはバレルリアクタの動作状態を監視し、検出された動作状態に応じて動作設定温度を選択する。その結果、バレルリアクタの金属表面は動作中に冷えた状態に保たれて腐食性の化学反応が遅延され、バレルリアクタが金属表面上での水の凝縮による水分吸収を防止するように運転されていない場合よりも高温に保たれる。

請求項（抜粋）：

半導体ウェーハに材料を化学蒸着するバレルリアクタ装置において、上記バレルリアクタは、反応室にウェーハを収容するための開口上部を有する容器と、上記反応室を加熱して、ガスからの材料がウェーハ上に蒸着する反応室内の条件を得るヒータと、上記容器の開口上部周りに配置され、ウェーハに蒸着される材料を含むガスを上記反応室に送り込むように構成されたガスリングと、選択的に開放されると共に選択的に上記容器の開口上部を密封閉鎖するように設けられてシールプレートと、上記シールプレートが上記容器の開口上部を密封閉鎖しているときに、上記反応室に露出された金属表面を有するガスリングとシールプレートの少なくとも一つと、上記ガスリングとシールプレートの少なくとも一つと冷媒流体との間で熱を伝達するために上記冷媒流体を循環する冷却装置とを有し、上記冷却装置は、上記冷媒流体と他の熱伝達媒体との間で熱を伝達するための手段と、上記熱伝達手段と上記バレルリアクタの金属表面と熱交換関係にあり、上記熱伝達手段から少なくとも上記シールプレートと上記ガスリングの少なくとも一つへ、さらに上記熱伝達手段へと戻り、冷媒流体を上記熱伝達手段から搬送すると共に、上記冷媒流体を上記バレルリアクタから上記熱伝達手段に戻す冷却ループと、上記バレルリアクタが動作中か非動作中かを検出して、検出された上記バレルリアクタの状態に応じた信号を作成するセンサと、上記冷媒流体と上記他の熱伝達媒体との間で上記熱伝達手段において伝達される熱量を制御するために、上記シールプレートが上記容器の開口上部を密封閉鎖しているときに、上記反応室に露出した金属表面の化学反応速度を遅延させるように選択された冷媒流体の第1の設定温度を得るために、上記冷媒流体と上記他の媒体との間で熱を伝達する上記熱伝達手段を制御するように構成されると共に、上記シールプレートが開放されているときに、上記金属表面による水分吸収を防止するように選択された上記第1の設定温度よりも高い冷媒の第2の設定温度を得るために上記熱伝達手段を制御するように構成されたコントローラとを備え、上記コントローラは、上記バレルリアクタの動作しているときに、上記冷媒流体の第1の設定温度を得るように上記熱伝達手段を制御すると共に、上記バレルリアクタが動作していないときに、上記冷媒流体の第2の設定温度を得るように上記熱伝達手段を制御するために、上記信号を受信するように上記センサに接続されている。