特許
J-GLOBAL ID：200903024367692229
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-309717
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140379
出願日： 1992年10月23日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 被処理体の回転に伴う処理ガスの渦流の発生を抑制することにより被処理体の表面と裏面をより均一かつ同時に処理できる処理装置を提供するものである。【構成】 被処理体3を処理ガス雰囲気で処理する処理室2と、この処理室2内に前記被処理体3を保持する保持機構5を設けた載置台4を備えた処理装置1において、前記被処理体3を回転させる回転手段6と、前記被処理体3の表面及び裏面に処理ガスを供給する供給手段13と、前記被処理体3の水平方向にリング状に排気口70を設けるとともに、この排気口70より前記処理ガスを排気する排気手段74を設け構成されたものである。
請求項（抜粋）：
被処理体を処理ガス雰囲気で処理する処理室と、この処理室内に前記被処理体を保持する保持機構を設けた載置台を備えた処理装置において、前記被処理体を回転させる回転手段と、前記被処理体の表面及び裏面に処理ガスを供給する供給手段と、前記被処理体の水平方向にリング状に排気口を設けるとともに、この排気口より前記処理ガスを排気する排気手段を設けたことを特徴とする処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 341
, C23C 16/44
, C23F 4/00
, H01L 21/027
, H01L 21/302
, H01L 21/31
