特許

J-GLOBAL ID：200903024370260216

特定アミン類を含む廃液の処理方法

発明者： 及川 宏習 ,  青木 延夫 ,  北山 速夫
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
代理人 (1件)： 幸田 全弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-311234
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141576
出願日： 1994年11月21日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：

【要約】【目的】 特定アミン類を含む廃液、特に非イオン系界面活性剤を含む廃液の中の特定アミン類および汚れ成分を不溶解物として容易に除去することが可能であって、放流可能な、あるいは循環再利用可能なレベルにまで浄化することができる廃液の処理方法を提供する。【構成】 特定アミン類を含む廃液中に珪酸塩が400wtppm(SiO2 換算)以上の濃度で存在し、かつエチレンオキサイド付加物などの非イオン系界面活性剤が共存する廃液のpHを10以下として不溶解物を形成させ、この不溶解物を廃液から分離除去する。

請求項（抜粋）：

下記化1(但し、式中、R1 ,R2 およびR3 は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基であり、同一でも異なっていてもよい。)で示されるアミン類又は/及び化2(但し、式中、R4 は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基である。)で示されるモルホリン類の1種又は2種以上からなる特定アミン類を含む廃液であって、下記化3(但し、式中、Mはアルカリ金属を表し、x は0.5≦x≦3.5である。)で示される珪酸塩が400wtppm(SiO2 換算)以上の濃度で存在し、かつ非イオン系界面活性剤が共存する廃液から、そのpHが10以下である条件とすることにより不溶解物を形成させ、これを分離除去することを特徴とする特定アミン類を含む廃液の処理方法。【化1】【化2】【化3】(M2 O)・(SiO2 )x

IPC (4件)：

C02F 1/52 ZAB ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/66 510 ,  C02F 1/66 521