特許

J-GLOBAL ID：200903024374704712

洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置

発明者： 須藤 誠司 ,  古市 弘
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-168488
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016873
出願日： 1997年06月25日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】 有機溶剤を主成分とする液を用いた半導体ウェハやLCD基板あるいは精密電子部品等の被処理物の洗浄乾燥を行なう際に、パーティクルの残存を少なくし、乾燥処理時間を短縮し、かつ、有機溶剤の使用量を少なくするとともに、その結果廃液も最小限に止める。【解決手段】 水と混合しうる有機溶剤中に水洗後の被処理物を浸漬した後に、被処理物を該有機溶剤中から取り出す工程を複数回含む被処理物の洗浄乾燥方法において、該処理物が浸漬している間の有機溶剤中の水分濃度を10wt%以下に保持することを特徴とする洗浄乾燥方法、および洗浄乾燥装置。

請求項（抜粋）：

水と混合しうる有機溶剤中に水洗後の被処理物を浸漬した後に、被処理物を該有機溶剤中から取り出す工程を複数回含む被処理物の洗浄乾燥方法において、該処理物が浸漬している間の有機溶剤中の水分濃度を10wt%以下に保持することを特徴とする洗浄乾燥方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 361 ,  B08B 3/08 ,  C23G 5/02 ,  C23G 5/04

FI (5件)：

H01L 21/304 351 V ,  H01L 21/304 361 V ,  B08B 3/08 A ,  C23G 5/02 ,  C23G 5/04