特許

J-GLOBAL ID：200903024376079254

電子顕微鏡用標本作成用のイオンビーム平削り装置及び方法

発明者： アラーニ,レザ
出願人/特許権者： ガタン・インコーポレーテッド
代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  神田 藤博
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-504461
公開番号（公開出願番号）：特表2004-501370
出願日： 2001年06月18日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

電子顕微鏡用標本を作成するためのイオンビーム平削り装置及び方法が提供され、半導体、金属、合金、セラミックス、その他の無機物質のTEM又はSEMのどちらかによる分析準備に有用である。一実施形態において、標本処理チャンバ、少なくとも2つのイオンビーム発生器、標本支持物又は標本ホルダを含む透過電子顕微鏡用の分析用標本を製造する装置及び方法が提供される。イオンビームマスク用部材が標本の表面に固定され、標本が平削り加工される。また、本装置は平削り加工の進行状態を検査する能力を備え、例えば標本が平削り加工されるとき標本上の関心対象エリアの監視を可能にする光学顕微鏡のような結像装置が本装置に含まれ得る。

請求項（抜粋）：

電子顕微鏡用標本作成用のイオンビーム平削り装置であって、真空源と連通するチャンバと、前記チャンバ内に配置された第1及び第2イオン生成銃と、標本ホルダと、長さ寸法及び厚さ寸法を有する標本とを含み、前記標本は前記標本ホルダへ取り付けられ、平削り加工の間に前記標本とイオンビームマスク用部材との間に相対的な動きを生じることのないようにイオンビームマスク用部材が前記標本の厚さ寸法を含む表面に固定され、前記イオンビームマスク用部材に隣接する前記標本の電子的に透明な表面を提供するために前記第1及び第2イオン銃の各々が前記標本の表面に平削り作用を起こさせるように配置されるイオンビーム平削り装置。

IPC (3件)：

G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  H01J37/20

FI (4件)：

G01N1/28 F ,  G01N1/32 B ,  H01J37/20 Z ,  G01N1/28 G

Fターム (12件)：

2G052AA11 ,  2G052AA13 ,  2G052AA14 ,  2G052AD32 ,  2G052AD52 ,  2G052EC14 ,  2G052EC18 ,  2G052GA34 ,  2G052GA35 ,  2G052JA03 ,  5C001CC01 ,  5C001CC04