特許
J-GLOBAL ID：200903024394487548
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-136583
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335197
出願日： 1997年05月27日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 処理液が無駄に消費されるのを抑制し、処理液の有効利用を行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 スリットノズル30の現像液吐出孔は複数の吐出孔に分割されているとともに、それら複数の吐出孔には相互に独立に現像液を供給することができる。そして、現像液を供給する吐出孔を変化させることによってスリットノズル30の吐出幅を幅D1、D2、D3に変化させることができる。現像液吐出処理を行うときには、区間Aではスリットノズル30の吐出幅を幅D1とし、区間Bでは吐出幅を幅D2とし、区間Cでは吐出幅を幅D3とする。基板Wに供給されることなく落下する処理液が減少し、処理液が無駄に消費されるのを抑制することができる。
請求項（抜粋）：
実質的に円形の基板の主面に処理液を吐出して所定の処理を行う基板処理装置であって、(a) 前記基板の直径以上の幅を最大吐出幅として前記最大吐出幅以下の範囲内で吐出幅が変化する可変吐出幅を有し、前記可変吐出幅と同等の幅の処理液流を前記基板の主面に吐出する処理液吐出ノズルと、(b) 前記処理液吐出ノズルを前記基板の主面と平行に直線的に移動させるノズル移動手段と、(c) 前記基板の主面上における前記処理液吐出ノズルの位置を検出するノズル位置検出手段と、(d) 前記処理液流を吐出させつつ前記処理液吐出ノズルを移動させる移動行程において、検出した前記処理液吐出ノズルの前記位置に応じて前記可変吐出幅の幅を変化させる吐出幅制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, B05B 15/10
, B05D 1/40
, G03F 7/16 502
, G03F 7/30 502
H01L 21/30 564 C
, B05B 15/10
, B05D 1/40 Z
, G03F 7/16 502
, G03F 7/30 502
, H01L 21/30 569 C
