特許
J-GLOBAL ID:200903024402349729

光触媒基材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-094677
公開番号(公開出願番号):特開平11-290696
出願日: 1998年04月07日
公開日(公表日): 1999年10月26日
要約:
【要約】【課題】 容易に製造し得る、触媒活性の高い光触媒基材を提供する。【解決手段】 チタン化合物の加水分解溶液を基材上に塗布、乾燥して膜を形成した後、水の存在下で処理することにより光触媒基材を得る。
請求項(抜粋):
チタン化合物を加水分解してなる酸化チタンおよび/またはその前駆体を含有する膜を基材上に形成してなる光触媒基材。
IPC (4件):
B01J 35/02 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 21/06 ,  B01J 31/06
FI (5件):
B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 21/06 A ,  B01J 31/06 A ,  B01D 53/36 102 C ,  B01D 53/36 102 D

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