クリーニング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青木朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-215224
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055184
出願日： 1991年08月27日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：

【要約】【目的】基板上に微細加工を施しもしくは薄膜を形成するのに用いた処理室内のクリーニングを効率よく行って装置の稼働率を上げるとともに、クリーニングを施す際に生じる不具合を解消し、効率の良いクリーニングを行うことを目的とする。【構成】処理室内に付着した生成物を、六フッ化イオウを主成分とするガスを用いたプラズマ処理によって除去するに当たり、表面が酸素を含む物質で形成されている基板を処理ステージ上に設置して、または前記処理室内に酸素を含む物質を存在させて、前記プラズマ処理を行う。

請求項（抜粋）：

基板上に微細加工を施しもしくは薄膜を形成するに際して処理室内に付着した生成物を、六フッ化イオウを主成分とするガスを用いたプラズマ処理によって除去するに当たり、表面が酸素を含む物質で形成されている基板を処理ステージ上に設置して前記プラズマ処理を行うことを特徴とするクリーニング方法。

IPC (3件)：

H01L 21/302 , H01L 21/027 , H01L 23/15

FI (2件)：

H01L 21/30 361 Z , H01L 23/14 C

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