エポキシ樹脂組成物及びフォトソルダーレジストインク並びにプリント配線板及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-041115
公開番号（公開出願番号）：特開平9-235356
出願日： 1996年02月28日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】プリキュア許容幅が広く長期保存が可能であり、プリキュア後の塗膜の指触乾燥性が良好で、また優れた解像性及び感度を有するフォトソルダーレジストインクを調製することができるエポキシ樹脂組成物を提供する。【解決手段】 A.エポキシ化合物を、1分子中に2個以上のイソシアネート基を有する化合物にて鎖延長したエポキシ樹脂、B.光重合可能なエチレン性不飽和基及びカルボキシル基を有する紫外線硬化性樹脂を含む。

請求項（抜粋）：

A.エポキシ化合物を、1分子中に2個以上のイソシアネート基を有する化合物にて鎖延長したエポキシ樹脂、B.光重合可能なエチレン性不飽和基及びカルボキシル基を有する紫外線硬化性樹脂を含んで成ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。

IPC (9件)：

C08G 59/40 NKH , C08G 18/58 NEK , C08G 59/14 NHB , C09D 11/02 PTU , C09D 11/02 PTV , C09D 11/02 PTW , C09D135/00 PFW , C09D163/10 PDY , H05K 3/28

FI (9件)：

C08G 59/40 NKH , C08G 18/58 NEK , C08G 59/14 NHB , C09D 11/02 PTU , C09D 11/02 PTV , C09D 11/02 PTW , C09D135/00 PFW , C09D163/10 PDY , H05K 3/28 D

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