特許
J-GLOBAL ID：200903024431975930
マスクパターン検証方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-003843
公開番号（公開出願番号）：特開平5-189520
出願日： 1992年01月13日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】【目的】本発明は、マスクパターン検証方法に関し、デバイスパターンとプロセスパターンとの間の配置関係を、マスクパターン製作前に容易に検証することを目的とする。【構成】(1)デバイスパターンaのCADデータAに基づいて、デバイスパターンaの全構成要素が含まれる最小の矩形領域cを求め、(2)プロセスパターンbのCADデータBに基づいて、プロセスパターンbを表す図面データを生成し、(3)プロセスパターンbの図面データに矩形領域cを表す図面データを付加して合成図面データを生成し、(4)合成図面データに基づいて合成パターン図bcを作成する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンを構成する第1パターン(a)のCADデータ(A)に基づいて、該第1パターンの全構成要素が含まれるように領域(c)を定める工程と、該マスクパターンの第2パターン(b)のCADデータ(B)に基づいて、該第2パターンを表す図面データを生成する工程と、該第2パターンの図面データに該領域を表す図面データを付加して合成図面データを生成する工程と、該合成図面データに基づいて、該第2パターンと該領域とを互いに相対的に異なる拡大倍率で合成した合成パターン図(bc)を作成する工程と、該合成パターン図に基づいて該第1パターンと該第2パターンとの間の配置関係を検証する工程と、を有することを特徴とするマスクパターン検証方法。
IPC (3件)：
G06F 15/60 370
, G03F 1/08
, H01L 21/027
