特許

J-GLOBAL ID：200903024441072815

投影露光装置

発明者： 中川 正弘 ,  工藤 祐司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-262196
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082631
出願日： 1995年09月14日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ上における高次の照度ムラを良好に補正する。【解決手段】 所定のパターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系と、マスクパターンを感光性基板上に投影するための投影光学系とを備えた投影露光装置において、マスクよりも光源側の光路中に設けられ、照明光学系の光軸に対してほぼ垂直な2つの境界面を有する媒質を含む平行平面板型の光透過手段と、感光性基板上における高次の照度ムラを補正するために、光軸に対して傾いた光線に対する光透過手段の屈折特性を制御するための制御手段とを備えている。

請求項（抜粋）：

所定のパターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系と、前記マスクパターンを感光性基板上に投影するための投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記マスクよりも光源側の光路中に設けられ、前記照明光学系の光軸に対してほぼ垂直な2つの境界面を有する媒質を含む平行平面板型の光透過手段と、前記感光性基板上における高次の照度ムラを補正するために、前記光軸に対して傾いた光線に対する前記光透過手段の屈折特性を制御するための制御手段と、を備えていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 E ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 527