特許
J-GLOBAL ID：200903024452294453
酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の積層体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-276830
公開番号（公開出願番号）：特開2005-035858
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 高濃度に酸素ラジカルを含有し、酸素ラジカルの連続的な取り込みや放出が可能なC12A7積層体を安価に提供すること。 【解決手段】 酸化スカンジウムで安定化した酸化ジルコニウム又は酸化サマリウム若しくは酸化ガドリニウムを添加した酸化セリウムの何れかの焼結体からなる基材上に、酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を用いて溶射することを特徴とする酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の積層体。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基材上に酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜を形成してなる積層体であって、前記基材が酸化スカンジウムで安定化した酸化ジルコニウム又は酸化サマリウム若しくは酸化ガドリニウムを添加した酸化セリウムの何れかの焼結体であって、前記酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜が酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を用いて溶射して成ることを特徴とする積層体。
IPC (1件)：
FI (2件)：
C04B41/87 J
, C04B41/87 K
