特許
J-GLOBAL ID：200903024453494650
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-184321
公開番号（公開出願番号）：特開平8-050996
出願日： 1994年08月05日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ生成用チャンバー1、このチャンバー1の周囲に設けられた複数の環状アンテナ2a,2bおよびファラディーシールドを具えるプラズマ処理装置において、ファラディーシールドでの環状電流の発生を防止すること。【構成】 ファラディーシールド110を、アンテナの中心軸方向に長尺な導電性部材10aをチャンバーの周方向に沿って複数配置し構成した導電性部材群10bと、それぞれの長尺な導電性部材10aの下端同士を電気的に接続しているがチャンバの周方向の電気的閉ループを阻止するため一部を切り欠いてある環状の導電性部材10xとを具える構造体で構成する。
請求項（抜粋）：
プラズマ生成用チャンバーと、該チャンバーの周囲に設けられた螺旋状アンテナ又は複数の環状アンテナと、該アンテナの前記チャンバー側に設けられたファラディーシールドとを具えるプラズマ処理装置において、ファラディーシールドを、アンテナの中心軸方向に長尺な導電性部材をチャンバーの周方向に沿って複数配置し構成した導電性部材群と、それぞれの長尺な導電性部材の一部同士を電気的に接続しているが前記チャンバの周方向の電気的閉ループを阻止するため一部を切り欠いてある環状の導電性部材とを具える構造体で構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (7件)
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特開平2-222141
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特表平5-502971
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特開昭63-156533
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