レーザプロジェクタ用の照射装置および方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-515522
公開番号（公開出願番号）：特表2004-525390
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

レーザ投影システムなどの作像デバイスに適切な照射を提供するためのシステムおよび方法。一実施形態において、高度にコリメートされた(例えば、レーザ光)ビームをホログラムディフューザに通して、ディフューザ上の各点から出射する光のための明確なコーン角を生成する。この光はフォーカシングされ、ディフューザの規定によって制御された照射画像となる。一実施形態において、画像は、投影ディスプレイ用のイメージャに適合するための4:3アスペクト比を有する強度の均一な矩形である。ディフューザ規定およびその結果の照射画像は任意の所望のイメージャに適合するように選択され得る。本システムおよび方法は、高レベルの光効率、スペックルおよび「虫食い」の低減または除去、cosine4およびガウシアン強度フォールオフの低減または除去の利点(すべて従来の設計に共通する課題)を提供する。

請求項（抜粋）：

高度にコリメートされた光ビームを出射するように構成された光源と、該高度にコリメートされた光ビームを受け取り、そして該光ビームから回折パターンを生成するように構成された制御角度ディフューザと、該回折パターンをフォーカシングして画像にするように構成された視野レンズとを含むシステム。

IPC (3件)：

G03B21/14 , G02B19/00 , G03B21/00

FI (3件)：

G03B21/14 A , G02B19/00 , G03B21/00 D

Fターム (11件)：

2H052BA02 , 2H052BA03 , 2H052BA07 , 2H052BA09 , 2H052BA14 , 2K103AA16 , 2K103AB05 , 2K103BA13 , 2K103BC20 , 2K103BC23 , 2K103BC32

前のページに戻る