特許
J-GLOBAL ID：200903024465851432
アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-349155
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186404
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】 層間絶縁膜を介して高開口率化を図った液晶表示装置の、表示品位向上および良品率向上を図る。【解決手段】 ガラスなどの絶縁性基板10上のゲート配線1や信号配線、TFTなどのスイッチング素子を覆うように層間絶縁膜を設け、配線と重なるように画素電極9を配置した液晶表示装置で、絶縁性基板10の厚みをコンタクトホール形成部10aで他より厚くする。この構成により、各配線と画素電極9間の寄生容量を減少させる為に層間絶縁膜8を厚く形成しても、コンタクト不良が起こらない。また、コンタクトホール7の大きさを小さくすることができる。
請求項（抜粋）：
基板上に走査配線と信号配線およびその交差部近傍にスイッチング素子が設けられ、該スイッチング素子、走査配線、および信号配線の上部に層間絶縁膜が形成され、該層間絶縁膜上に形成された画素電極が層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介してスイッチング素子と電気的に接続されたアクティブマトリクス基板と、対向基板との間に液晶を挟持してなるアクティブマトリクス型液晶表示装置において、該アクティブマトリクス基板のコンタクトホールが形成される部分の基板厚を、少なくとも表示領域内の他の部分よりも厚く形成したことを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1339 505
G02F 1/136 500
, G02F 1/1339 505
