特許

J-GLOBAL ID：200903024471889760

マスタリング装置及び超音波アクチュエータ

発明者： 田畑 文夫
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-227757
公開番号（公開出願番号）：特開2002-042384
出願日： 2000年07月27日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】 超音波モータを組み込んだマスタリング装置において、秒速数十mmの高速移動と、秒速数μm程度の超低速移動とを両立させる。【解決手段】 直動ステージ6によって移動する回転ステージ13に載置された原盤を、描画用光源からの光によって描画するマスタリング装置8において、直動ステージ6を、固定台6B、固定台6B上を移動する移動台6A、及び、固定台6Aと移動台6Aの間に設ける超音波アクチュエータ4とから構成し、超音波アクチュエータ4は、圧電素子の積層方向が縦の第1と第2の積層圧電体A1,A2と圧電素子の積層方向が横の第3の積層圧電体Bとから構成する。第1と第2の積層圧電体A1,A2に圧電素子の機械的な共振周波数近傍の周波数の電圧を印加して移動台6Aを高速移動し、これより低い非共振周波数の電圧を第1から第3の積層圧電体A1,A2,Bに印加して移動台6Aを低速移動する。

請求項（抜粋）：

直動ステージとこの上に設けられた回転ステージとからなるステージ機構を備え、前記回転ステージ上に載置された原盤を描画用ビーム源からの光ビーム或いは電子ビームによって描画するマスタリング装置において、前記直動ステージを、固定台、この固定台上に位置して前記回転ステージが載置される移動台、及び、前記固定台上に設けられ前記移動台を移動させる駆動用圧電素子からなる超音波アクチュエータとから構成し、前記超音波アクチュエータは、前記駆動用圧電素子の機械的な共振周波数より低い非共振周波数で変化する電圧を前記駆動用圧電素子に印加して駆動されることを特徴とするマスタリング装置。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/20 501 ,  H02N 2/00

FI (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/20 501 ,  H02N 2/00 C

Fターム (20件)：

2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097CA17 ,  2H097LA20 ,  5D121BB21 ,  5D121BB32 ,  5D121BB38 ,  5H680AA04 ,  5H680AA05 ,  5H680BB13 ,  5H680BC10 ,  5H680CC02 ,  5H680DD01 ,  5H680DD23 ,  5H680DD59 ,  5H680DD95 ,  5H680FF26 ,  5H680FF36