特許
J-GLOBAL ID：200903024472909888
錫めっき硫酸浴および錫めっき方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
椎名 彊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-150210
公開番号（公開出願番号）：特開平7-003488
出願日： 1993年06月22日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、電気めっきブリキおよび薄錫めっき鋼板の製造に用いる錫めっき硫酸浴および錫めっき方法を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、主成分として5〜50g/lの硫酸、40〜100g/lの錫(II)、光沢添加剤、およびo-キノン、p-キノン、キノンイミンのいずれかもしくは複数からなるスラッジ抑制剤を0.02〜1g/l含む錫めっき硫酸浴、および該めっき浴を用い、浴温30〜70°C、電流密度50A/dm2 以上で鋼ストリップに錫を高電流密度で電析させる錫めっき方法である。
請求項（抜粋）：
主成分として5〜50g/lの硫酸、40〜100g/lの錫(II)、光沢添加剤、およびo-キノン、p-キノンまたはキノンイミンであるスラッジ抑制剤を0.02〜1g/l含む錫めっき硫酸浴。
IPC (2件)：
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