特許
J-GLOBAL ID：200903024480550732
基板洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-074437
公開番号（公開出願番号）：特開平7-256222
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 粒径の小さな微細な異物を除去することができ、且つ基板の損傷および再汚染のないような基板洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄すべき基板6の表面に向かって液体を供給するための液体供給手段7と、前記液体により湿潤状態となった前記基板の表面に向かって凍結粒子を噴射するための凍結粒子噴射手段8とを備えている。
請求項（抜粋）：
洗浄すべき基板の表面に向かって液体を供給するための液体供給手段と、前記液体により湿潤状態となった前記基板の表面に向かって凍結粒子を噴射するための凍結粒子噴射手段とを備えていることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (3件)：
B08B 3/10
, B08B 7/02
, H01L 21/304 341
