特許

J-GLOBAL ID：200903024495810501

多角形パターン複写修正方法

発明者： 北村 正
出願人/特許権者： セイコー電子工業株式会社
代理人 (1件)： 林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-007856
公開番号（公開出願番号）：特開平6-214376
出願日： 1993年01月20日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】 フォトマスクやレチクル等の多角形パターンの参照パターンを多角形近似により取得して、複写修正場所に自動的に位置合わせを行い、参照パターンを用いて高精度に複写修正する。【構成】 集束イオンビーム装置等から得られる画像から参照パターンの輪郭点列をトレース方法にて取得しと、の輪郭点列を最小自乗法を用いた切片線形近似による多角形近似により輪郭情報とし、参照パターンと複写修正場所の共通パターンを用いて自動的に位置合わせを行い、集束イオンビーム装置等の描画方法で線幅方正を施した参照パターンを用いて高精度に複写修正するする。【効果】 ±1画素以下の精度で複写修正が可能になる。

請求項（抜粋）：

集束イオンビーム加工装置から得られる画像から参照パターンの輪郭点列をトレース方法にて取得し、その輪郭点列を最小自乗法を用いた切片線形近似による多角形近似により輪郭情報とし、参照パターンと複写修正場所の共通パターンを用いて自動的に位置合わせを行い、集束イオンビーム装置の描画方法で線幅補正を施した参照パターンを用いて高精度に複写修正する方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G06F 15/62 405

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-140804
  
• 特開昭58-182233
  
• 特開平3-231749
  
• 特開平3-231748