特許
J-GLOBAL ID：200903024498511475
美容処理用チップとそれを用いた美容処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-324849
公開番号（公開出願番号）：特開2003-205008
出願日： 2002年11月08日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 美容液や化粧液などの各種美容処理剤の皮膚への浸透効率や浸透量の制御性などを高めると共に、低コストで簡易的に使用することが可能な美容処理装置が求められている。【解決手段】 美容処理装置は、偏心ロータ2を有するモータ3のような振動発生手段が内蔵された装置本体1を具備する。装置本体1の先端部分には、振動発生手段からの振動が伝達されるように、美容処理用チップ10が固定されている。美容処理用チップ10は、利用者の身体に美容処理剤を浸透させるように、振動させた状態で利用者の皮膚表面に当接されるものである。このような美容処理用チップ10は多孔質基材を有し、この多孔質基材内に美容処理剤を含浸、保持させることにより構成されている。
請求項（抜粋）：
身体に美容処理剤を浸透させるように、前記身体の皮膚表面に当接される美容処理用チップであって、多孔質基材と、前記多孔質基材内に含浸された前記美容処理剤とを具備することを特徴とする美容処理用チップ。
IPC (2件)：
A61H 23/02 386
, A45D 34/04 535
A61H 23/02 386
, A45D 34/04 535 C
4C074AA05
, 4C074BB01
, 4C074CC11
, 4C074EE01
, 4C074GG01
, 4C074HH01
