特許

J-GLOBAL ID：200903024513334968

プラズマ処理装置の洗浄方法

発明者： 戸澤 茂樹 ,  細田 正蔵
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-352895
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201829
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ処理装置における処理室内の部材の洗浄工程の実施時期を明確に設定でき、これによって被処理体にパーティクルの付着を抑制し、被処理体の歩留りを向上することができるプラズマ処理装置の洗浄方法を提供する。【構成】 減圧雰囲気化で高周波電力を印加し、プラズマを生起させることにより被処理体Wを処理するプラズマ処理装置1の洗浄方法において、前記高周波電力の印加時間を積算する工程と、この積算時間が所定時間以上になった後、前記被処理体Wを処理する処理室2内の部材18を洗浄する指示信号41を出力する工程と、この工程の後、前記部材18を洗浄する工程とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

減圧雰囲気化で高周波電力を印加し、プラズマを生起させることにより被処理体を処理するプラズマ処理装置の洗浄方法において、前記高周波電力の印加時間を積算する工程と、この積算時間が所定時間以上になった後、前記被処理体を処理する処理室内の部材を洗浄する指示信号を出力する工程と、この工程の後、前記部材を洗浄する工程とを具備したことを特徴とするプラズマ処理装置の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302

FI (2件)：

H01L 21/302 N ,  H01L 21/302 Z