特許

J-GLOBAL ID：200903024516665566

ハイドロゲンシルセスキオキサン樹脂からの光画描可能な皮膜

発明者： ローレン アンドリュー ハルスカ ,  キース ウィントン マイケル
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-099041
公開番号（公開出願番号）：特開平5-204161
出願日： 1992年04月20日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：

【要約】【目的】 ハイドロゲンシルセスキオキサン樹脂から、優れた解像、熱安定性及びエッチング耐性を有する皮膜を形成する方法を提供する。【構成】 ハイドロゲンシルセスキオキサン樹脂及び開始剤を含むセラミックス前駆体皮膜を基体の上に形成し、次いでこの皮膜の選択された領域を樹脂が硬化するに充分な時間放射線照射する。次いで皮膜の未硬化部分を洗浄除去し、パターン化された皮膜が残るようにする。

請求項（抜粋）：

次の(1)〜(3)を含む、基体上へのパターン化された皮膜の製造方法:(1)ハイドロゲンシルセスキオキサン樹脂及び開始剤を含む皮膜を基体上に形成すること;(2)前記皮膜の選択された領域を、それが硬化するに充分な時間放射線照射すること;並びに(3)未硬化のハイドロゲンシルセスキオキサン樹脂を溶解するに効果のある溶媒でリンスすることにより未硬化皮膜を除くこと。

IPC (5件)：

G03F 7/075 511 ,  C09D183/04 PMS ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭58-045259
  
• 特開昭62-212644
  
• 特開昭63-318550
  
• 特開平1-202826