特許
J-GLOBAL ID:200903024521976758

アレイ製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-530533
公開番号(公開出願番号):特表2002-527717
出願日: 1999年02月05日
公開日(公表日): 2002年08月27日
要約:
【要約】本発明は、物質のアレイの調製のための改変された方法および装置を提供し、ここで、各アレイは、基板の表面と結合するポリマー、低分子、または無機物質の予め選択された収集物を含む。本発明の方法は、アレイ製造に使用される一般的な装置、フローセル幾何学条件、および溶液に改変を提供する。
請求項(抜粋):
アレイを製造する方法であって、以下: 物質のアレイを形成するために基板の表面上で物質を製造する工程;および 該製造工程の間に静電気を除去する工程を含む、方法。
IPC (6件):
G01N 33/53 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 33/566 ,  G01N 37/00 102
FI (6件):
G01N 33/53 M ,  C12M 1/00 A ,  C12Q 1/68 A ,  G01N 33/566 ,  G01N 37/00 102 ,  C12N 15/00 F
Fターム (21件):
4B024AA19 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024HA19 ,  4B029AA27 ,  4B029BB20 ,  4B029CC03 ,  4B029CC08 ,  4B063QA01 ,  4B063QA13 ,  4B063QA18 ,  4B063QQ42 ,  4B063QQ52 ,  4B063QR32 ,  4B063QR35 ,  4B063QR56 ,  4B063QR84 ,  4B063QS34 ,  4B063QS39 ,  4B063QX02

前のページに戻る