特許

J-GLOBAL ID：200903024528544900

非球面形状測定装置及び非球面形状測定方法

発明者： 劉 志強
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277411
公開番号（公開出願番号）：特開2003-083726
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】 相異なる幾種類もの被検非球面の形状を効率よく測定することが可能な非球面形状測定装置及び非球面形状測定方法を提供する。【解決手段】 被検非球面10において反射した測定光を基準参照面であるフィゾー面14aにおいて反射した参照光とを重ね合わせて干渉縞を形成させる干渉光学系と、この干渉光学系において得られた干渉縞の位相分布に基づいて被検非球面10の形状を算出する演算装置18との他にパターン可変回折格子を備えた構成とする。被検非球面10に入射する前の測定光をパターン回折格子15により回折させてその波面形状を被検非球面10の形状にほぼ一致させるとともに、パターン可変回折格子15の格子パターンと回折の前後における測定光の波面形状の変化量との関係を用いて干渉縞の位相分布を補正し、これにより得られた補正後の干渉縞の位相分布に基づいて被検非球面10の形状を求める。

請求項（抜粋）：

被検非球面において反射若しくは前記被検非球面を透過した測定光を参照光と干渉させて干渉縞を形成させる干渉光学系と、前記干渉光学系において得られた前記干渉縞の位相分布に基づいて前記被検非球面の形状を算出する演算手段とを有して構成される非球面形状測定装置であって、前記被検非球面に入射する前の前記測定光及び前記測定光と干渉する前の前記参照光の少なくとも一方を回折させてその波面形状を前記被検非球面の形状にほぼ一致させるパターン可変回折格子を備え、前記演算手段は、予め記憶された前記パターン可変回折格子の格子パターンと前記回折の前後における光の波面形状の変化量との関係を用いて前記干渉縞の位相分布を補正し、これにより得られた補正後の干渉縞の位相分布に基づいて前記被検非球面の形状を求めることを特徴とする非球面形状測定装置。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  G01B 9/02 ,  G01M 11/00

FI (3件)：

G01B 9/02 ,  G01M 11/00 L ,  G01B 11/24 D

Fターム (28件)：

2F064AA09 ,  2F064BB04 ,  2F064EE02 ,  2F064EE05 ,  2F064FF01 ,  2F064GG14 ,  2F064GG23 ,  2F064GG44 ,  2F064HH03 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA54 ,  2F065BB05 ,  2F065BB22 ,  2F065CC22 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL19 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065QQ28 ,  2G086FF01