特許
J-GLOBAL ID：200903024532534501
露光用マスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-011936
公開番号（公開出願番号）：特開平9-204034
出願日： 1996年01月26日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：
【要約】【課題】 各パターンに対して最適な堀込み量を設定でき、寸法制御性の向上をはかり得る。【解決手段】 透光性基板上に遮光性パターンと透明位相シフトパターンを具備した露光用マスクにおいて、透明位相シフトパターンは、前記遮光性パターン間の開口部の堀込み量が交互に異なるように設定されたパターンにより構成され、かつ堀込み量が浅い部分の堀込み量を、露光光の波長をλとして、開口パターン寸法が3.2λより大きいパターンにおいては176〜194度の位相差を有し、且つマスク開口寸法が3.2λより小さいパターンにおいては166〜173度の位相差を有するように設定した。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に遮光性パターンと透明位相シフトパターンを具備した露光用マスクにおいて、前記透明位相シフトパターンは、前記遮光性パターン間の開口部の堀込み量が交互に異なるように設定されたパターンにより構成され、かつ堀込み量が浅い部分の堀込み量を、露光光の波長をλとして、開口パターン寸法が3.2λより大きいか小さいかに応じて可変設定してなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
