特許
J-GLOBAL ID：200903024537296870
エキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池澤 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139298
公開番号（公開出願番号）：特開平6-334241
出願日： 1993年05月19日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 エキシマーレーザーにおいてとくに希ガスおよびハロゲンガスの供給量の精度向上を図ることができるエキシマーレーザーのガス調整方法およびその装置を提供すること。【構成】 たとえば希ガスおよびハロゲンなどガス濃度構成比の低いガス用として、所定濃度かつ小さな容積のサブチャンバー21を別途設けることに着目したもので、レーザーチャンバー2より小さな容積のサブチャンバー21の内部で混合ガスを調整する混合ガス準備工程と、レーザーチャンバー2を真空引きしたのちサブチャンバー21からレーザーチャンバー2に混合ガスを供給する混合ガス供給工程と、サブチャンバー21を通さずにバッファガスをレーザーチャンバー2に供給するバッファガス供給工程と、を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
所定の容積を有するレーザーチャンバーにガス濃度構成比の低いガスを所定の要請濃度で供給するエキシマーレーザーのガス調整方法であって、前記ガスのガスボンベと前記レーザーチャンバーとの間に、該レーザーチャンバーの容積より小さな容積を有するサブチャンバーを設けるとともに、このサブチャンバーに前記ガスの2種あるいはそれ以上を、前記レーザーチャンバーでの前記要請濃度より高い濃度で注入可能として、該サブチャンバーの内部で混合ガスを調整する混合ガス準備工程と、前記レーザーチャンバーを真空引きしたのち、前記サブチャンバーからこのレーザーチャンバーに前記混合ガスを供給する混合ガス供給工程と、ついで、前記サブチャンバーを通さずに他のガスボンベからバッファガスを該レーザーチャンバーに供給するバッファガス供給工程と、を有することを特徴とするエキシマーレーザーのガス調整方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01S 3/03 J
, H01S 3/223 E
