超臨界流体雰囲気におけるプラズマ状態

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出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-402586
公開番号（公開出願番号）：特開2003-178900
出願日： 2001年12月12日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【課題】高圧力/高粒子密度雰囲気におけるプラズマ状態をより効率的に実現する。【解決手段】超臨界流体セル中、もしくは外部に放電発生用の電極を設置し、直流/交流電圧を用いること、もしくは窓を用いたセルを用い、レーザー光を用いること等により高圧力/高粒子密度雰囲気である超臨界流体雰囲気においてプラズマ状態を創生する。

請求項（抜粋）：

臨界点を含め、臨界圧よりも高圧、臨界温度よりも高温である超臨界流体雰囲気において発生を行ったプラズマ状態

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