特許

J-GLOBAL ID：200903024556121410

大面積基板処理チャンバを監視及び制御するための総合計測ツール

発明者： ヒエンミン フー リー ,  ホソカワ アキヒロ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 ,  山田 行一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-236101
公開番号（公開出願番号）：特開2007-107093
出願日： 2006年08月31日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：

【課題】 大面積基板処理チャンバを監視及び制御する装置及び方法の実施形態を提供する。【解決手段】 処理チャンバ内で基板処理した後の膜特性を測定するために基板処理システムにおいて複数のタイプの計測ツールを取り付けることができる。処理チャンバ内で基板処理した後の膜特性を測定するために基板処理システムにおいて数種の具体的なタイプの計測ツールを取り付けることもできる。計測チャンバ、プロセスチャンバ、搬送チャンバ、又はロードロック内に計測ツールを取り付けることができる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板処理モジュールの計測チャンバであって、該基板処理モジュールの少なくとも1つの基板処理チャンバを監視及び/又は制御するように適合された前記計測チャンバであって、 少なくとも1つの第1タイプの計測ツールと、 少なくとも1つの第2タイプの計測ツールと、 を備えた前記計測チャンバ。

IPC (5件)：

C23C 14/54 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  H01L 29/786

FI (5件)：

C23C14/54 C ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/205 ,  C23C16/52 ,  H01L29/78 624

Fターム (42件)：

4K029EA01 ,  4K029KA09 ,  4K030HA14 ,  4K030JA01 ,  5F045AA03 ,  5F045AF01 ,  5F045AF07 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045DQ17 ,  5F045GB04 ,  5F045GB11 ,  5F110AA24 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE14 ,  5F110EE42 ,  5F110EE44 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF04 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110GG44 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK09 ,  5F110HK14 ,  5F110HK16 ,  5F110HK22 ,  5F110HK32 ,  5F110HK33 ,  5F110HK34 ,  5F110QQ09