特許
J-GLOBAL ID：200903024565583605

閉塞部分を減少した装置を処理するための方法および装置

発明者：
ス-ミン・リン

ス-ミン・リン について


出願人/特許権者：
エシコン・インコーポレイテッド

エシコン・インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 田澤 博昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-258415
公開番号（公開出願番号）：特開2002-153544
出願日： 2001年08月28日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：
【要約】【課題】 装置を洗浄、滅菌または消毒、および乾燥するための簡単且つ安全で効果的な方法および装置を提供する。【解決手段】 好ましくは、支持体および制御可能な開口部または境界領域の使用により、洗浄または滅菌処理中にコンテナ内における装置の閉塞領域を減少または除去する方法および装置を開示する。支持体の形態を変化させることにより装置と支持体との間における接触領域のパターンを変更して、洗浄、消毒または滅菌処理中における閉塞領域を減少できる。
請求項（抜粋）：
処理工程中に装置を支持する方法において、当該処理工程が洗浄、消毒、または滅菌処理の内の少なくとも一つの処理を行なう目的で装置を流体の中に浸す工程を含み、前記処理工程における第1の部分において、前記装置が前記流体の中で支持部材の上に支持されていて、当該支持部材が前記装置を支持するためにそれぞれ当該装置に対して接触する少なくとも第1の接触点および第2の接触点を有しており、前記処理工程における第2の部分において、前記支持部材における少なくとも一部分が移動して、前記第1の接触点および第2の接触点の少なくとも一方が前記装置との接触状態から離脱することにより、前記処理工程中における前記支持部材と前記装置との間の閉塞した接触領域を減少する方法。
IPC (5件)：
A61L 2/20 ,  A61B 1/12 ,  A61L 2/06 ,  A61L 2/18 ,  B08B 3/04
FI (7件)：
A61L 2/20 A ,  A61L 2/20 G ,  A61L 2/20 J ,  A61B 1/12 ,  A61L 2/06 A ,  A61L 2/18 ,  B08B 3/04 Z
Fターム (19件)：
3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB13 ,  3B201BB92 ,  3B201CC15 ,  3B201CD11 ,  4C058AA13 ,  4C058AA15 ,  4C058BB05 ,  4C058BB07 ,  4C058CC06 ,  4C058CC07 ,  4C058DD03 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ06 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ16 ,  4C061GG09
引用特許：
審査官引用 (1件)

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