特許
J-GLOBAL ID：200903024589137312
洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-063685
公開番号（公開出願番号）：特開平6-269748
出願日： 1993年03月23日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】【目的】 一つの洗浄装置内で有機汚染物と異物汚染物の除去を装置のコンパクト化を図りつつ可能にし、しかも、洗浄装置の自動化,高洗浄を可能にする。【構成】 一つの洗浄装置本体2にて被洗浄物たる基板1がローラ50により順次水平に搬送される。この搬送経路には、洗浄液として有機物に対し溶解性を有する界面活性剤の原液或いは高濃度のものを用いる有機汚染物除去用の洗浄シャワー部4と、洗浄液として前記界面活性剤と同一のものを希釈した低濃度の洗浄液を用いる異物汚染物除去用の洗浄ブラシ6とが設けてある。洗浄液として、油性の媒体に界面活性剤を混合させたものでもよい。一連の洗浄後、すすぎ部8,仕上部9に送られる。
請求項（抜粋）：
装置本体に被洗浄物たる基板に付着した有機物を溶解により除去するための洗浄部と、前記基板に付着した異物を除去するための洗浄部とを備えて一連の洗浄を行う洗浄装置において、前記一連の洗浄に用いる洗浄液が同一種類の洗浄液で且つ前記有機物溶解の洗浄部に用いる方が原液或いは高濃度で前記異物除去の洗浄部に用いる方が希釈した低濃度の洗浄液となるよう設定してあることを特徴とする洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B 3/04
, B05B 17/06
, H01L 21/304 341
, C11D 7/50
