大規模ワイヤ・グリッド偏光子の応用および作製技術

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：恩田博宣 , 恩田誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-543582
公開番号（公開出願番号）：特表2008-522226
出願日： 2005年11月28日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：

ワイヤ・グリッド偏光子は、所定の周期Λを有する、複数の実質的に直線状である金属線を薄膜基板上に形成することによって作製される。基板の表面上に、複数の実質的に直線状であるナノメートル規模の周期的表面レリーフ構造が生成される。周期的表面レリーフ構造は、長さが約4センチメートルより大きく、幅が約4センチメートルより大きい領域を覆い、周期Λは、約10ナノメートルと約500ナノメートルの間である。周期的レリーフ構造上に材料の1つまたは複数の層が形成される。1つまたは複数の層は、長さが約4センチメートルより大きく、幅が約4センチメートルより大きい基板の領域に、複数の実質的に直線状の金属線を形成する1つまたは複数の導体材料を含む。

請求項（抜粋）：

薄膜基板上に所定の周期Λを有する、複数の実質的に直線状の金属線を形成する方法であって、該基板の表面上に複数の実質的に直線状の、ナノメートル規模の周期的表面レリーフ構造を生成する工程と、該周期的レリーフ構造上に材料の1つまたは複数の層を形成する工程とを備え、該周期的表面レリーフ構造が、長さが約4センチメートルより大きく、幅が約4センチメートルより大きい領域を覆い、該1つまたは複数の層は、長さが約4センチメートルより大きく、幅が約4センチメートルより大きい該基板の領域に、複数の実質的に直線状の金属線を形成する1つまたは複数の導体材料を含み、該周期Λが約10ナノメートルと約500ナノメートルの間である方法。

IPC (4件)：

G02B 5/30 , G02F 1/133 , F21V 8/00 , F21V 9/14

FI (4件)：

G02B5/30 , G02F1/1335 510 , F21V8/00 601A , F21V9/14

Fターム (21件)：

2H049BA02 , 2H049BA05 , 2H049BA22 , 2H049BA45 , 2H049BB01 , 2H049BB03 , 2H049BB42 , 2H049BC08 , 2H049BC22 , 2H091FA08X , 2H091FA08Z , 2H091FA31Z , 2H091FA41Z , 2H091FB02 , 2H091FB08 , 2H091FC02 , 2H091FC07 , 2H091FC10 , 2H091FC26 , 2H091FC29 , 2H091LA12

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