連続プラズマ表面処理方法及び装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164091
公開番号（公開出願番号）：特開2000-353698
出願日： 1999年06月10日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：

【要約】【課題】局所的なアーク放電を起こすことなく、以て大気圧下で均一な処理を行うことができる連続プラズマ処理方法、ならびにそのための装置を提供すること。【解決手段】スリット状通気孔が設けられた電極、該電極と一定の間隔を以て対向する電極から構成される対向電極間に、概ね大気圧下で、該スリット状通気孔からプラズマ表面処理のためのガスを導入しつつ交流電界を印加することによって放電プラズマを発生させ、該対向電極間に被処理物を連続的に供給移動させることによって被処理物を表面処理することを特徴とする連続プラズマ処理方法。ならびに、そのための装置。

請求項（抜粋）：

スリット状通気孔が設けられた電極、該電極と一定の間隔を以て対向する電極から構成される対向電極間に、概ね大気圧下で、該スリット状通気孔からプラズマ表面処理のためのガスを導入しつつ交流電界を印加することによって放電プラズマを発生させ、該対向電極間に被処理物を連続的に供給移動させることによって被処理物を表面処理することを特徴とする連続プラズマ処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/31 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , C23C 16/50

FI (4件)：

H01L 21/31 C , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , C23C 16/50 B

Fターム (30件)：

4K030CA07 , 4K030CA12 , 4K030DA02 , 4K030EA05 , 4K030FA03 , 4K030GA14 , 4K030JA09 , 4K030KA15 , 4K030KA17 , 4K057DA20 , 4K057DB20 , 4K057DD01 , 4K057DE14 , 4K057DG07 , 4K057DM06 , 4K057DM09 , 4K057DM36 , 4K057DM37 , 4K057DM40 , 5F045AA08 , 5F045AE29 , 5F045AF07 , 5F045AF10 , 5F045DP22 , 5F045EH04 , 5F045EH05 , 5F045EH08 , 5F045EH12 , 5F045EH19 , 5F045EJ05

引用特許：

審査官引用 (1件)

支持体の表面処理方法、支持体の表面処理装置及び塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-094468 出願人：コニカ株式会社

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