特許
J-GLOBAL ID：200903024635143810
真空ディスプレイパネルの製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西村 教光
, 鈴木 典行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-142784
公開番号（公開出願番号）：特開2006-318862
出願日： 2005年05月16日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：
【課題】真空パネルの両基板を正確に位置決めして高気密性で封着できる製法を提供する。【解決手段】アノード基板3の内面に、軟化点が高い第1シール材料で第1パターン6及び台座7を同一高さで形成する。軟化点が低い第2シール材料で第1パターンの上に第2パターン8を形成する。第2パターンの上にカソード基板5を載せ、表示部2と電界放出素子4が所定の位置関係となるように両基板を位置決めする。第2パターンの部分でカソード基板の上面を押圧し、台座に相対する部分でカソード基板の周囲を押圧して撓ませて台座に当接させ、レーザで台座を溶融して両基板を仮固定する。封着炉で第2パターンを溶融させ、排気しながら両基板を封着した後、仮固定した部分を切断除去する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
所定間隔をおいて対面するように配置された第1基板と第2基板の間をシール材料で封着して内部を高真空状態とした真空ディスプレイパネルの製造方法において、
前記第1基板の内面に、軟化点が相対的に高い第1シール材料で第1シールパターンと台座を形成する第1工程と、
軟化点が相対的に低い第2シール材料で前記第1シールパターンの上に第2シールパターンを形成する第2工程と、
前記第1基板に設けられた前記第2シールパターンの上に前記第2基板を載せて前記第1基板と前記第2基板を位置決めする第3工程と、
前記第2基板を前記第1基板上の前記台座に当接させた状態で前記台座を溶融させることにより前記台座を介して前記第2基板と前記第1基板を固定する第4工程と、
前記第2シールパターンを溶融させることにより前記第2基板と前記第1基板を封着し、内部を排気する第5工程と、
を有することを特徴とする真空ディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
5C012AA04
, 5C012AA05
, 5C012BC03
, 5C012BC04
, 5C036EE14
, 5C036EE15
, 5C036EE17
, 5C036EF01
, 5C036EG05
, 5C036EH04
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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