特許

J-GLOBAL ID：200903024644141227

ノズル穴の製造方法およびノズル穴

発明者： 山田 泰史 ,  大垣 傑 ,  手塚 伸治 ,  大窪 克之
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-171787
公開番号（公開出願番号）：特開2001-347669
出願日： 2000年06月08日
公開日（公表日）： 2001年12月18日
要約：

【要約】【課題】 照射光の照度ムラを極力無くし、所望の上下の穴径が得られるノズル穴の製造方法およびノズル穴を提供する。【解決手段】 インクジェット方式ヘッドのノズル穴をレジストパターンと金属の電析により形成するノズル穴の製造方法において、前記レジストパターンの形成をレーザ露光により行い、該レジストパターンの上部と下部の穴径を変化させる。

請求項（抜粋）：

金属基板の略全面に、電鋳金属を残す為のレジストをコーティングする工程と、前記レジストに対してレーザ光を照射し、該レジストの必要部分と不要部分とを区分する工程と、前記レジストの不要部分を除去し、必要部分によりレジストパターンを作成する工程と、前記レジストパターンに対して金属の電鋳を行う工程と、前記電鋳後に前記レジストパターンを除去し、残された電鋳部分によりノズル穴を形成する工程とを含むことを特徴とするノズル穴の製造方法。

IPC (5件)：

B41J 2/135 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G03F 7/20 505 ,  B23K101:36

FI (6件)：

B23K 26/00 H ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/06 J ,  G03F 7/20 505 ,  B23K101:36 ,  B41J 3/04 103 N

Fターム (17件)：

2C057AF24 ,  2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AP13 ,  2C057AP23 ,  2C057BA03 ,  2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  4E068CA11 ,  4E068CD04 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10 ,  4E068CD11 ,  4E068CD14 ,  4E068CE03 ,  4E068CE08 ,  4E068DA09