特許
J-GLOBAL ID:200903024648185911

酸素感応膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-278731
公開番号(公開出願番号):特開2007-086040
出願日: 2005年09月26日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】1Torr(133Pa)程度以下の低圧力域においても高い酸素感度を有し、かつ、マイクロ・ナノシステムへの適用を可能とする。【解決手段】両親媒性の酸素感応物質を含む単分子膜が累積された累積膜により構成されていることを特徴とする酸素感応膜である。好適には、単分子膜は、前記酸素感応物質の分子間隔を制御するスペーサ分子として機能する両親媒性の充填物質をさらに含む。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
両親媒性の酸素感応物質を含む単分子膜が累積された累積膜により構成されていることを特徴とする酸素感応膜。
IPC (1件):
G01N 21/64
FI (1件):
G01N21/64 C
Fターム (9件):
2G043AA01 ,  2G043BA09 ,  2G043CA01 ,  2G043EA01 ,  2G043FA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB16 ,  2G043GB21
引用特許:
出願人引用 (1件)

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