特許

J-GLOBAL ID：200903024669868873

液体原料の気化装置及びその運転方法

発明者： 栗山 文夫 ,  村上 武司 ,  中田 勉 ,  阿部 祐士
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-029873
公開番号（公開出願番号）：特開平10-195658
出願日： 1997年01月08日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】 種々の液体原料に対し、安定した気化原料を連続的に処理室に供給する気化装置を提供する。【解決手段】 処理室10にて被処理体11に所定の処理を施すために液体原料2を気化させて処理室に導入するための気化装置において、液体原料を収納するための原料容器1、液体原料を輸送するための原料供給手段3および原料輸送路4を有し、原料供給手段と処理室との間の原料輸送路に、液体原料を気化させるための気化部35と気化部で気化された気化原料中に存在する固形粒子を捕らえるためのフィルタ36を設けた。

請求項（抜粋）：

処理室にて被処理体に所定の処理を施すために液体原料を気化させて前記処理室に導入するための気化装置において、液体原料を収納するための原料容器、前記液体原料を輸送するための原料供給手段および原料輸送路を有し、前記原料供給手段と前記処理室との間の原料輸送路に、前記液体原料を気化させるための気化部と前記気化部で気化された気化原料中に存在する固形粒子を捕らえるためのフィルタを設けたことを特徴とする気化装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  B01J 7/02 ,  C23C 16/40

FI (3件)：

C23C 16/44 C ,  B01J 7/02 Z ,  C23C 16/40

引用特許：

審査官引用 (2件)

• CVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-238315   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
• 特開平4-089378