特許
J-GLOBAL ID：200903024681093178
マイクロ波プラズマ化学蒸着装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂間 暁 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-231178
公開番号（公開出願番号）：特開平8-091988
出願日： 1994年09月27日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：
【要約】【目的】 装置の大型化が可能であり、基材上に迅速かつ効率的に広範囲にわたって均質な成膜が可能であり、製造コストの安い装置を実現する。【構成】 円筒型空洞共振器4の内径と長さをTE011 モード単一の共振モードによる放電が得られるような寸法とすることによって、上記円筒型空洞共振器4の中央部に広範囲で均一なプラズマを発生させ、原料ガスを広範囲にわたって放電励起させ、基材上に均一に成膜させることを可能とし、上記円筒型空洞共振器4内に反応室4aを設けることによって、原料ガスの一層効率的な放電励起を可能とし、上記円筒型空洞共振器4の壁に共振周波数のずれを補正する補正機構14,15を設けることによって、一層均一なプラズマの発生を可能とする。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発生装置から出力されたマイクロ波を円筒型空洞共振器中に導入し、そのマイクロ波の電界によって原料ガスを放電励起反応させ、その近傍に設置した基材上に反応生成物の薄膜を形成するマイクロ波プラズマ化学蒸着装置において、円筒型空洞共振器の内径と長さを、円筒形の均一放電を発生させる電磁界のTE011 モードの共振周波数のみがマイクロ波発生装置の周波数に一致し、TE011 モード単一の共振モードによる放電が得られるような寸法としたことを特徴とするマイクロ波プラズマ化学蒸着装置。
IPC (3件)：
C30B 25/00
, B01J 19/08
, H01L 21/205
