特許

J-GLOBAL ID：200903024729425925

球状中空多孔質シリカ粒子の製造方法

発明者： 伊ヶ崎 文和 ,  内田 邦夫 ,  川合 章子
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-053287
公開番号（公開出願番号）：特開平8-091821
出願日： 1994年02月25日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】 高純度シリカ粒子を、ゾル・ゲル法により製造する方法を提供すること。【構成】 オルトケイ酸テトラエチルに、アルコール、水および酸触媒を加えて部分加水分解を行わせた後、フチル酸ジブチルを添加し、この溶液を界面活性剤を含んだアンモニア水溶液中で混合攪拌し、乳化し、重縮合させることにより、比重の軽い高純度の球状中空多孔質シリカ粒子が製造できた。【効果】 平均粒径2〜8μm、比表面積約300m2/gで嵩密度 0.16g/mlの球状中空多孔質シリカ粒子が得られた。

請求項（抜粋）：

オルトケイ酸テトラエチルに、アルコール、水および酸触媒を加えて部分加水分解を行わせた後、フタル酸ジブチルを添加し、この溶液を界面活性剤を含んだアンモニア水溶液中で混合攪拌し、乳化し、重縮合反応させることにより球状中空多孔質シリカ粒子を製造する方法。

IPC (2件)：

C01B 33/152 ,  B01J 13/04