特許
J-GLOBAL ID：200903024729791468
基板現像装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-203934
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036028
出願日： 1995年07月17日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【目的】 現像液の使用量を極力少なくできるものでありながら、現像の均一性および処理効率を向上する。【構成】 基板保持手段4に保持した基板Wの上方に、所定の隙間Sが有る状態で基板Wの表面と平行に平板部材8の平面部分8aを対向させ、基板Wの外周縁の一部の箇所から隙間S内に現像液ノズル9によって現像液を供給するとともに、基板Wの外周縁で不活性ガスを下方に噴出供給して負圧を発生させ、隙間S内に供給された現像液を吸引し、現像液を基板Wの全面に拡げて保持し、露光処理後のレシスト膜を現像処理する。
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板保持手段と、前記基板の表面に現像液を供給する現像液供給手段とを備えた基板現像装置において、前記現像液供給手段とは別に、前記基板の上方に所定の隙間が有る状態で前記基板の表面と平行に対向する平面部分を有して前記隙間内で前記基板の表面に供給された現像液を表面張力により前記基板の全面に拡げて保持する平板部材を設け、前記平板部材を前記基板の表面に対向する作用位置と、そこから離れた非作用位置とに変位する駆動機構を設け、かつ、前記現像液供給手段を、前記基板の外周縁の一部の箇所から前記隙間内に現像液を供給可能に構成し、前記基板の中心を間にして前記現像液供給手段による現像液の供給箇所とは反対側に、前記隙間内に供給された現像液を吸引する吸引手段を付設したことを特徴とする基板現像装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
H01L 21/30 569 C
, G03F 7/30 502
, H01L 21/30 569 F
